Circuits & Electronics - Semiconductor Material & Diode

半導體 Semiconductor

  • 自由電子數量介於 導體(Conductor)絕緣體(Insulator) 之間

導體 Conductor

  • 材料上有許多自由電子 (free electron)
  • 給予外加電壓後,產生電場,自由電子開始移動
  • 自由電子移動,且數量夠多時,量測的到電流,我們稱它為導體
  • 在室溫下,自由電子濃度大概是 $10^22 / cm^3$

絕緣體 (Insulator)

  • 每個原子幾乎都沒辦法貢獻自由電子,因此自由電子數量極少,沒辦法導電
  • 在室溫下,自由電子濃度大概是 $10^1 / cm^3$

半導體有哪些種類?

  • 通常在元素週期表上的第四族,像是矽(Si)、鍺(Ge) 又稱為 元素半導體 (elemental semi)
  • 有時候會是一個 第三族第五族 元素混合形成化合物,像是砷化鎵 (GaAs),又稱 化合物半導體 (compound semi)

矽 Si

  • 礦產佔地球比例 1/4
  • 跟 Ge 比起來比較穩定

本質半導體 (Intrinsic Semi)

  • 第四族的所有元素,價電子 (valence electron) 數量都是 4 個
    • 價電子:原子最外的電子層中的電子
    • 其中 C 是絕緣體,Si、Ge 是半導體,Sn、Pb 是導體
  • Si 會與鄰近的其他 Si 形成 共價鍵 (covalence bond)
    • 在室溫下,自由電子濃度大概是 $10^10 / cm^3$
    • 外界給予能量時 (ex: 溫度上升),價電子會脫離共價鍵
      • 價電子脫離共價鍵結構所需的最小能量稱為 Bandgap Energy (Eg)
      • $e^-$ 脫離後會產生電洞 $h^+$,又稱為 Generate $e^-$ $h^+$ 對,與之相反的是 Recomine
    • 在溫度上升的過程中,Generation 速率會比 Recombination 速率快
    • 當熱平衡 (Thermal Equilibrium) 時,Generation 速率跟 Recombination 速率一樣快,$e^-$、$h^+$ 數量不再改變

電子濃度公式

  • $ n_i(T) = BT^{3/2} e^{(-Eg/2kT)}$
    • i: intrinsic
    • B: Semi Constant for Si, B = 5.23 * $10^{15}$
    • Eg: Bandgap energy (eV) for Si, Eg = 1.1 eV
    • T: 絕對溫度 (K), K = 273.15 + $^\circ C$
    • k: Boltzmann’s Constant, k = 86 * $10^{-6}$ eV/K
  • 可以發現本質載子濃度對於溫度 T 非常敏感

外質半導體 (Extrinsic Semi)

  • 摻少量 (比例大約 1/10000000) 雜質到本質半導體 (Si),導電性上升

N 型半導體

  • 這邊以摻雜五價元素為例,稱為 N 型半導體
    • 原先 Si 濃度是 5 * $10^22$ 原子/$cm^3$
    • 摻雜的 P 濃度是 5 * $10^15$ 原子/$cn^3$
    • 摻雜過後的 Si 濃度是 5 _ $10^22$ - 5 _ $10^15$,還是 5 * $10^22$ 原子/$cm^3$
      • 可以發現 Si 濃度幾乎沒有改變,因此熔點等物理特性、化學特性不會變,但是 導電性 會改變
  • 摻雜元素要是均勻分布的
  • 摻雜後,每個雜質都多貢獻一個自由電子,稱其為 施體或施子 (donor)
    • 原先電子濃度是 $10^10$
    • 摻雜後的電子濃度是 $10^10$ + $10^15$ = $10^15$,因此電子濃度是由 donor 濃度決定,稱其為 $N_d$

P 型半導體

  • 摻雜三價元素 (B),原理跟 N 型半導體 差不多
  • 電洞變成多數載子 (Majority Carriers),電子變成少數載子 (Minority Carriers)
  • 上述的 donor 變成 acceptor (受體、受子),因此 $N_d$ 也變成 $N_a$

質量作用定律 (mass-action law)

  • $ n p = n_i^2$
    • n: 電子濃度
    • p: 電洞濃度
    • n_i: 本質載子濃度
  • 電子濃度和電動濃度乘積固定,當電子濃度上升後,電洞濃度會下降
  • 在 N 型半導體裡面,n 替換成 $n_{n0}$,p 替換成 $p_{n0}$
  • 在 P 型半導體裡面,n 替換成 $n_{p0}$,p 替換成 $p_{p0}$

飄移與擴散 Drift and Diffusion

飄移

  • 外力,像是施予電壓產生電場
  • 電場產生力給載子,移動裡面的電子與電洞
    • 雖然電子與電洞方向不同,但他們貢獻的方向是相同的,不會抵銷
    • 所有載子的平均速度,就是 飄移速度,會隨著電壓變大而變快
      • 當飄移速度變快時,電流也會越大
      • 可以發現跟歐姆定律很像,但是在半導體中要多考慮 電洞
  • 雖然電場與飄移速度成正相關,但是當電場大到一定程度 ($10^4$),飄移速度幾乎不會再增加
    • 電子: $v_{dn}$ = - $\mu_n$ E
    • 電洞: $v_{dp}$ = + $\mu_p$ E
      • $\mu$: 移動率,mobility
      • $v_d$: 飄移速度
      • E: 電場
      • 電子多個負號,因為它與電場方向相反
      • $\mu_n$ 大約是 1350,$\mu_p$ 大約是 480 $\frac{cm^3}{V \cdot s}$

半導體電流公式

Semiconductor Current Equation

電子 n

我們有 $I_n$ = $\frac{N \cdot q}{t}$ 、 $V_{dn}$ = $\frac{-L}{t}$ (- 為方向),因此 $I_n = qN \cdot \frac{(-V_{dn})}{L}$
電流密度 $J_n = \frac{I_n}{A} = \frac{qN \dot (-V_{dn})}{L\cdot A}$ = $q \cdot n (-V_{dn})$ (n 為電子濃度)
結合前面的飄移速度公式,可以得到 $J_n = q \cdot n \cdot (-V_{dn}) = q \cdot n \cdot (-) (-\mu_n) \cdot E = q \cdot n \mu_n \cdot E$

電洞 p

基本上跟電子類似,可以得到 $J_p = q \cdot p \mu_p \cdot E$

可以知道 半導體的電流密度 $J = J_n + J_p = (q \cdot n \mu_n + q \cdot p \mu_p) \cdot E$

導電係數 $\sigma$

半導體的電流密度 中的 $(q \cdot n \mu_n + q \cdot p \mu_p)$ 又稱為 導電係數 conductivity

在探討 歐姆定律 (Ohm’s laws) 時,我們有 $I = \frac{V}{R} = \frac{V \cdot A}{\rho \cdot L} = J \cdot A$

  • $\rho$ 為 電阻係數
  • $L$ 為長度
  • $A$ 為截面積

可以發現 $J = \frac{1}{\rho} \cdot \frac{V}{L} = (\frac{1}{\rho}) \cdot E$ 且 $J = \sigma \cdot E$
所以 $\sigma = \frac{1}{\rho}$

例題

本質半導體 Si 在 300 K 的溫度下, $\mu_n = 1350 \frac{cm^3}{V \cdot s}$,$\mu_p = 480 \frac{cm^3}{V \cdot s}$,$N_d = 1 \cdot 10^{16} 1/cm^3$,求導電係數 $\sigma$?

$n = N_d = 1 \cdot 10^{16}$
$p = \frac{n_i^2}{N_d} = \frac{(1.5 \cdot 10^{10})^2}{10^{16}} = 2.25 \cdot 10^4$
可以發現 $q \cdot p \cdot \mu_p$ 跟 $q \cdot n \cdot \mu_n$ 比起來極小,可以省略
因此 $J = q \cdot n \cdot \mu_n = 1.6 \cdot 10^{-19} \cdot 10^{16} \cdot 1350 = 2.16$

  • 可以觀察到,如果沒有參雜雜質,$p$ 或 $n$ 都遠不及有參雜雜質的,因此 導電性 會差很多倍

導電係數之溫度係數

Impurity Scattering & Lattice Scattering

Impurity Scattering

溫度上升,電子能有更多能量,移動速度較快,電子移動過程中更難受質子影響 (吸引)
因此,$T$ 上升,$\mu$ 上升

Lattice Scattering

溫度上升,離子更容易震動,離子的 有效面積 上升,電子移動過程中更容易撞到離子
因此,$T$ 上升,$\mu$ 下降

一般而言,我們討論的室溫 (300 K),大概都在 Lattice Scattering 的範圍內

本質半導體

在本質半導體中,$\sigma = (q \cdot n \mu_n + q \cdot p \mu_p)$,其中 $n = p = n_i$,因此 $\sigma = q \cdot n_i \cdot (\mu_n + p \mu_p)$
前面有提到,本質載子濃度 $n_i$ 對於溫度非常敏感,因此當溫度上升時,雖然 $(\mu_n + p \mu_p)$ 下降,但是遠不及 $n_i$ 的上升程度,所以 $\sigma$ 還是上升

N 型半島體

$\sigma = q \cdot N_d \cdot \mu_n$
溫度上升,$N_d$ 不變,$\mu_n$ 下降,所以 $\sigma$ 下降,P 型半導體同理

擴散

  • 透過濃度的差異,自然的流動,不需要外力

Circuits & Electronics - Semiconductor Material & Diode
https://933yee.github.io/notes/2024/09/07/circuits-and-electronics-1/
Author
Kevin Lee
Posted on
September 7, 2024
Licensed under